极其的大。
    之前的光刻机是用的光源是深紫外光，现在申城微电实现量产的130纳米光刻机依旧使用的深紫外光。
    可euv光刻机得要用极紫外光。
    而极紫外光刻机早在八十年底的时候就被提出，1999年的时候asml公司开始进行研发，计划在2004年的时候推出产品。
    只不过到2010年的时候才做出原型机，到了2016年的时候才实现向下游客户供货，比预期之中整整的晚了十二年时间。
    韩松林对光刻机了解不多，可也是知道euv光刻机的，能够将芯片制程给做到7纳米，甚至5纳米，3纳米，就只有euv光刻机能够做到。
    而asml公司能够在未来独霸全球，占据全球光刻机市场百分之八十的市场，就因为人家在技术路线的选择上面走对了。
    韩松林知道，光刻机有两样东西很重要：光源和光学透镜。
    为此在星辰院专门的成立了光源研究所和光学研究所。
    光学镜片这块，华国的确要差了些。
    全球在光学透镜技术这块，最好的要数汉斯国和岛国。
    汉斯国的蔡司和莱卡，岛国的尼康和奥林巴斯。
    这四家公司是最顶级的光学企业。
   
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