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第四百零六章:十纳米的碳基芯片

结果即有些失落,又还算庆幸。
    毕竟十纳米级的碳基芯片还在他们的预料中,尽管这已经接近了底线。
    只不过接下来大家可能要拼刺刀了。
    在硅基芯片的制造过程中,有着数个门槛。
    百纳米级,四十五纳米级、十四纳米级、十纳米级、七纳米级、五纳米级等等。
    这些门槛代表了制造芯片的技术高低,分别是由不同的原因造成的。
    比如十四纳米级的芯片,门槛是光源。
    众所周知,光刻机的光源是雕刻芯片的手术刀,但光是有波长的。
    光的波长限制这边雕刻刀的锋利程度。
    比如红外光的波长是770~622nm之间,用这种光来雕刻芯片,得到的精度几乎就在这个波长区间。
    而达到十四纳米级别后,几乎绝大部分的光波就都失效了,只有极紫外光源能勉强达到要求。
    所以极紫外光是顶级光刻机的核心部件之一,因为它才能用来雕刻十纳米级以下的芯片。
    直播间里面的观众其实都想错了。
    在他们看来,10纳米和3纳米还有较大的差别,但在光刻机这个一个领域,大家都知道,10纳米的芯片和3纳米的芯片使用的光源,其实是一样的,都是极紫外
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