并且我们已经取得了不错的进展，往后，我们合作的机会还多着呢，你说是吧？”
    终于，丁跃拿出自己最大的杀器了。
    让国芯科技集团做出选择。
    以后要不要继续更好的合作，就看今天国芯科技集团能不能够帮忙解决芯片的这个事情了。
    如果国芯科技集团帮忙了，那么丁跃肯定会记住国芯科技集团的“好”，以后光刻机制程工艺技术方面有成果了，那么“合作分享”一部分也不是不可以。
    不然的话，丁跃就准备自己建厂造光刻机以及芯片，那到时候跟国芯科技集团可就是竞争关系了。
    当然了，前提是雾城文理大学的光刻机实验项目能够不断顺利的完成。
    而就丁跃目前所知道的，自己雾城文理大学光刻机实验项目在5纳米级别光刻机领域，已经有很大的进展了。
    而7纳米、14纳米级别的光刻机制程工艺技术，只要实现了能够自己成熟制造，那么就可以在这一场缺芯危机之中游刃有余了。
    14纳米级别和32纳米级别的芯片，属于当前比较主流的芯片，很多电子产品都用得上。
    7纳米级别，属于较为高端的芯片。
    而5纳米级别的，则是各大公司企业
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