两者的性质不同，对其进行曝光处理，需要的光刻胶自然不同。
    光刻胶这东西，在硅基芯片上大体分两种类型。
    一正一负两大类。
    正性类型的光刻胶在涂抹到晶圆上，经过曝光、显影处理后，曝光的区域被溶解，未曝光部分留下来，这就是正性类型光刻胶。
    反之，则是负性类型光刻胶。
    硅基芯片是这样的，但碳基芯片不是。
    碳和硅，就单质性质来说，碳的稳定性是要大于硅的。
    而在两者的半导体材料这一样，石墨烯晶圆的稳定性同样要大于单晶硅晶圆。
    所以真正高精度的碳基光刻胶只有一种，那就是负性光刻胶。
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